日本USHIO牛尾光刻機(jī)MEMS用曝光裝置四川成都優(yōu)勢供應(yīng)
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產(chǎn)品名稱: 日本USHIO牛尾光刻機(jī)MEMS用曝光裝置四川成都優(yōu)勢供應(yīng)
產(chǎn)品型號: MEMS
產(chǎn)品展商: 日本USHIO牛尾
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔
簡單介紹
日本USHIO牛尾光刻機(jī)MEMS用曝光裝置四川成都優(yōu)勢供應(yīng)
日本USHIO牛尾光刻機(jī)MEMS用曝光裝置四川成都優(yōu)勢供應(yīng)
日本USHIO牛尾光刻機(jī)MEMS用曝光裝置四川成都優(yōu)勢供應(yīng)
的詳細(xì)介紹
配備適用于20mm*大φ8英寸的晶圓，具有*小5微米(MICRON)L/S規(guī)格之等倍投影曝光光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置。
MEMS用途上，配備具有較深度焦點(diǎn)深度（*大±50微米(MICRON)）之USHIO獨(dú)特投影鏡頭，*適合對高低差異基板的曝光、及凹凸基板的曝光，甚至壓膜光阻的曝光。此外，亦可透過背面對位(選購配備)對背面曝光。
特征
?較深的焦點(diǎn)深度
配備具有*大±50μ焦點(diǎn)深度的投影鏡片。
?高精度校正
采用TTL測光方式。
直接使用各個顯微鏡觀察遮罩/工作記號進(jìn)行校正，因此可執(zhí)行高**度校正。
?光罩無損害
光罩與作產(chǎn)品完全不接觸，因此不造成損壞，光罩可半長久使用。
?抗污垢與殘留異物的構(gòu)造
可安裝附薄膜的光罩，因此可忽視光罩類型面上的污垢執(zhí)行曝光。
此外，為了在光罩類型面對焦，其構(gòu)造可抗光罩上的污垢。
?簡易維護(hù)與操作
因?yàn)槠毓鈺r無須驅(qū)動，一年一次校正即可。操作與選單管理的重現(xiàn)亦完整。
主要用途
?MEMS
?3D封裝
?重新接線層的曝光
?各種電子零件
?電源裝置
?SU8等壓膜電阻等
